特許
J-GLOBAL ID:200903013620495514
高温抵抗式ヒーター
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-297648
公開番号(公開出願番号):特開平10-189490
出願日: 1997年09月24日
公開日(公表日): 1998年07月21日
要約:
【要約】【解決手段】 化学的気相堆積チャンバ等の処理装置用の抵抗加熱構造である。この装置は、支持面と支持シャフトとを含む抵抗加熱基板ホルダを含んでおり、このホルダは第1の材料から構成されている。支持面は、抵抗加熱素子を含んでいる。支持シャフトは所定の長さを有しており、また、熱電対を支持面に係合させるとともに導体を支持面の抵抗加熱素子に結合させることを可能にする貫通穴を有している。金属取付け構造が支持シャフトに結合されるとともに処理装置に固定されてホルダおよび取付け構造内に密封環境を作り出し、電気リードと熱電対とを処理環境から保護する。
請求項(抜粋):
化学的気相堆積チャンバ用の抵抗加熱装置であって、第1の熱膨張係数を有する第1の材料から構成され、ウェーハ支持領域[18、18a]と、前記ウェーハ支持領域を支持する支持シャフト[20、20a]と、を含み、前記支持シャフトが、前記ウェーハ支持領域に結合される第1の端部とベース端部とによって画成される長さを有している、基板保持部材[12、12a]と、第2の熱膨張係数を有する第2の材料から構成され、前記支持シャフトのベース端部を固定するカップリング構造[100、100a]と、を備える抵抗加熱装置。
IPC (3件):
H01L 21/285
, C23C 16/44
, H01L 21/205
FI (3件):
H01L 21/285 C
, C23C 16/44 H
, H01L 21/205
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開平4-123422
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特開平4-123422
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特開昭59-232994
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特開昭59-232994
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-253300
出願人:株式会社東芝
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