特許
J-GLOBAL ID：200903013639704041
マスク用基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-056170
公開番号（公開出願番号）：特開平10-106943
出願日： 1997年03月11日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：
【要約】【課題】 必要最小限の支柱の幅を形成するマスク用基板の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも、シリコン層、メンブレン材料を形成してなる層を順次積層してなる基板を用意する工程と、前記シリコン層上に酸化シリコン層を形成し、該酸化シリコン層に所定のパターンを形成する工程と、前記酸化シリコン層のパターンに合わせて前記シリコン層を垂直方向にエッチングが可能なドライエッチング法によりエッチングする工程と、を有するマスク用基板の製造方法。
請求項（抜粋）：
少なくとも、シリコン層、メンブレン材料を形成してなる層を順次積層してなる基板を用意する工程と、前記シリコン層上に酸化シリコン層を形成し、該酸化シリコン層に所定のパターンを形成する工程と、前記酸化シリコン層のパターンに合わせて前記シリコン層を垂直方向にエッチングが可能なドライエッチング法によりエッチングする工程と、を有するマスク用基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
, G03F 1/16 B
, H01L 21/30 541 R
