特許
J-GLOBAL ID：200903013640190108
位相シフトフォトマスク及び位相シフトフォトマスク用ブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-002544
公開番号（公開出願番号）：特開平10-198017
出願日： 1997年01月10日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 広い波長域に亘って透光性に優れ、且つ、位相シフトフォトマスクの位相差制御を容易にし、位相差の精度を向上し得る位相シフトフォトマスク及び位相シフトフォトマスク用ブランクを提供することを目的とする。【解決手段】 透明なガラス基板1上にガラス基板1及び位相シフト層3よりもエッチング速度の小さいジルコニウム化合物薄膜からなる位相差調整層2と位相シフト層3を形成した位相シフトフォトマスク用ブランク4を作製し、位相シフト層3上にレジストパターン5を形成し、レジストパターン5をマスクにしてドライエッチングを行い、位相シフトパターン3a及び位相差調整層2に掘り込み部6を形成して位相シフトフォトマスクを作製する。
請求項（抜粋）：
ガラス基板上に位相シフトパターンを設けた位相シフトフォトマスクにおいて、ガラス基板表面上もしくは位相シフト層の下層に、ガラス基板及び位相シフト層よりもエッチング速度の小さい位相差調整層を設けていることを特徴とする位相シフトフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
