特許
J-GLOBAL ID：200903013715763575
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-132808
公開番号（公開出願番号）：特開平9-298189
出願日： 1996年04月30日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ処理時に、被処理体の酸化を低減すると共に、RFパワーを上げずに、処理レートを向上させることができるプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 ヘリウムボンベ1からのヘリウムは、水蒸気混合器3で純水5と直接に接触されて、プラズマ処理部4に供給される。このプラズマ処理部4では、高周波電源6からの高周波電圧が印加されることにより、プラズマが生成されて、活性化された水により発生する酸素の酸化作用及び水素の還元作用により、ワーク43上の有機物が除去される。
請求項（抜粋）：
大気圧又はその近傍の圧力下にて、高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記一対の電極間にプラズマを生成し、プラズマ放電により被処理体を処理するプラズマ処理方法において、前記一対の電極間に、プラズマ生成用ガスと水分とを供給して前記プラズマを生成することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/304 341
H01L 21/302 H
, H01L 21/304 341 D
