特許

J-GLOBAL ID：200903013716569969

検査装置

発明者： 浜島 宗樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 古谷 史旺 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-222187
公開番号（公開出願番号）：特開平11-064256
出願日： 1997年08月19日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、電子ビームを利用して、画像を取得し検査する検査装置に関し、検出画像のS/Nを向上させ、均質かつ鮮明な画像を取得することができる検査装置を提供することを目的とする。【解決手段】 電子ビームを試料面上に照射する照射手段1と、電子ビームの照射により、試料から発生する二次電子、反射電子を二次ビームとして検出する電子検出手段2と、照射手段1および電子検出手段2と、試料との間に配置され、照射手段1から照射される電子ビームを試料面上に照射させ、かつ試料から発生する二次ビームを、電子検出手段2に導く偏向手段3と、偏向手段3と試料との間に配置される対物電子光学系4と、対物電子光学系4の焦点位置に配置され、二次ビーム量を制限するビーム制限手段5とを備え、対物電子光学系4とビーム制限手段5とは、テレセントリックな電子光学系を構成することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

電子ビームを試料面上に照射する照射手段と、前記電子ビームの照射により、前記試料から発生する二次電子、反射電子または後方散乱電子の少なくとも1種を二次ビームとして検出する電子検出手段と、前記照射手段および前記電子検出手段と、前記試料との間に配置され、前記照射手段から照射される電子ビームを前記試料面上に照射させ、かつ前記試料から発生する二次ビームを、前記電子検出手段に導く偏向手段と、前記偏向手段と前記試料との間に配置される対物電子光学系と、前記対物電子光学系の焦点位置に配置され、前記二次ビーム量を制限するビーム制限手段とを備え、前記対物電子光学系と前記ビーム制限手段とは、テレセントリックな電子光学系を構成することを特徴とする検査装置。

IPC (5件)：

G01N 23/225 ,  G01B 15/04 ,  G01N 23/20 ,  G01R 31/302 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

G01N 23/225 ,  G01B 15/04 ,  G01N 23/20 ,  H01L 21/66 J ,  G01R 31/28 L

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 電子ビーム照射分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-303136   出願人：株式会社トプコン
• 特公昭54-024262