特許
J-GLOBAL ID：200903013726106894
プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松井 光夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-206087
公開番号（公開出願番号）：特開2004-043934
出願日： 2002年07月15日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
【課題】大面積の結晶化膜、高緻密膜の薄膜を基板上に堆積するプラズマ支援スパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置を提供する。【解決手段】真空チャンバー内でスパッタリングにより基板上に薄膜を形成する方法において、ロータリー式マグネトロンカソード2A、2Bを使用して、基板1側表面近傍に磁力線がアーチ状になるようにミラー磁場を形成してシート状プラズマ保持領域を作る工程、マグネット配列5をカソード2A、2Bとは反対側に配置して、基板1のカソード2A、2B側の表面近傍に磁力線がアーチ状になるようにミラー磁場を形成してシート状プラズマ保持領域を作る工程、及び基板1の進行方向及び/又は反対方向に向って、カソード2A、2Bの基板1側表面近傍及びカソード2A、2B側の表面近傍の両方にマイクロ波を放射して、各領域に電子サイクロトロン共鳴プラズマを発生させ、補強支援プラズマとする工程を含むスパッタリング薄膜形成方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マグネトロンカソードを内部に有する真空チャンバー内でプラズマスパッタリングにより基板上に薄膜を形成する方法において、
(a1)上記マグネトロンカソードとしてロータリー式マグネトロンカソードを使用し、上記ロータリー式マグネトロンカソード中のマグネット配列により、ロータリー式マグネトロンカソードの基板側表面近傍に磁力線がアーチ状になるようにミラー磁場を形成してシート状のプラズマ保持領域を作る工程、
(a2)複数の磁石から成るマグネット配列を、上記基板の、上記ロータリー式マグネトロンカソードとは反対側に配置して、上記基板の、上記ロータリー式マグネトロンカソード側の表面近傍に磁力線がアーチ状になるようにミラー磁場を形成してシート状のプラズマ保持領域を作る工程、及び
(a3)上記基板の進行方向及び/又はその反対方向に向って、上記ロータリー式マグネトロンカソードの基板側表面近傍、及び上記基板の、上記ロータリー式マグネトロンカソード側の表面近傍の両方にマイクロ波を放射して、上記各領域に電子サイクロトロン共鳴プラズマを発生させ、これを上記各領域に保持して補強支援プラズマとする工程
を含むスパッタリング薄膜形成方法。
IPC (3件)：
C23C14/35
, G02B1/11
, H05H1/46
C23C14/35 F
, C23C14/35 B
, H05H1/46 C
, G02B1/10 A
2K009AA02
, 2K009CC03
, 2K009DD04
, 2K009DD09
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029BA17
, 4K029BA48
, 4K029CA05
, 4K029DC40
, 4K029DC42
, 4K029DC43
, 4K029DC45
, 4K029DC48
