特許
J-GLOBAL ID：200903013733655267
無機物極薄片及びその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-015774
公開番号（公開出願番号）：特開平8-209340
出願日： 1995年02月02日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：
【要約】【目的】 第1の無機物からなる厚さ100Å〜200Åの極薄片の一端部に前記第1の無機物よりも硬質の第2の無機物が付着され、その反対側端部が基板上に支持されている無機物極薄片を得る。薄膜断面の原子像をTEMで観察するための試料作製時間を短縮する。【構成】 無機物からなる厚さ100Å〜200Åの極薄片1の一端部に前記第1の無機物よりも硬質の第2の無機物2が付着され、その反対側端部が基板3上に支持されている無機物極薄片である。また、前記極薄片1が基板3上に複数個立設されているものである。また、基板上に所定の厚さの第1の無機物薄膜を形成し、該第1の無機物薄膜の一端辺部に前記第1の無機物よりも硬質の第2の無機物粉末もしくは線状無機物を付着し、該硬質の第2の無機物薄膜の前面に垂直にイオンビーム照射し、その後に当該第1の無機物薄膜の裏面側からイオンビームを10〜20度の範囲の角度に傾斜させて照射する無機物極薄片作製方法である。
請求項（抜粋）：
第1の無機物からなる厚さ100Å〜200Åの極薄片の一端部に前記第1の無機物よりも硬質の第2の無機物が付着され、その反対側端部が基板上に支持されていることを特徴とする無機物極薄片。
IPC (2件)：
引用特許：
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