特許

J-GLOBAL ID：200903013751810504

ポジ型レジスト溶液

発明者： 大野 勇人 ,  加藤 哲也 ,  新倉 聡 ,  高橋 浩一 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-175710
公開番号（公開出願番号）：特開平7-036181
出願日： 1993年07月15日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：

【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基含有化合物及び(C)(A)成分と(B)成分の合計量に基づき0.001〜0.1重量%の範囲の量の、一般式【化1】(式中のR1は水素原子又は低級アルキル基、R2は水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示す)で表わされるフェノール系化合物を、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートに溶解して成るポジ型レジスト溶液である。【効果】 レジストの感光性成分の析出や、感度及び粘度の経時変化がなく、保存安定性に優れ、かつ高解像度でデフォーカスマージンが広く実用的で、特に半導体素子製造用に好適である。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)キノンジアジド基含有化合物及び(C)(A)成分と(B)成分の合計量に基づき0.001〜0.1重量%の範囲の量の、一般式【化1】(式中のR1は水素原子又は低級アルキル基、R2は水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基を示す)で表わされるフェノール系化合物を、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートに溶解して成るポジ型レジスト溶液。

IPC (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 502 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平4-278952
  
• 特開平2-018562
  
• 特開平1-133045
  
• 特開昭63-218946
  
• 特開昭61-007837
  
• ポジ型ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-283579   出願人：東京応化工業株式会社