特許

J-GLOBAL ID：200903020067073408

ポジ型ホトレジスト組成物

発明者： 中緒 卓 ,  沼田 麗美 ,  土井 宏介 ,  徳竹 信生 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-283579
公開番号（公開出願番号）：特開平6-208222
出願日： 1993年11月12日
公開日（公表日）： 1994年07月26日
要約：

【要約】【構成】 アルカリ可溶性ノボラック型樹脂と、ナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸のエステル化合物と、式【化1】(式中のR1は炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数7〜10のアラルキル基)又は式【化2】(式中のR2は炭素数1〜5のアルキル基、nは1〜5の整数)で表わされるフェノール系化合物とを含有して成るポジ型ホトレジスト組成物である。【効果】 感度、解像性、焦点深度及び耐熱性などの特性に優れるとともに、定在波効果の抑制された、すなわち照射光と基板からの反射光との干渉による影響が抑制されたパターン形状にも優れる。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性ノボラック型樹脂と、(B)ナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸のエステル化合物と(C)一般式【化1】(式中のR1は炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数7〜10のアラルキル基である)で表わされるフェノール系化合物の中から選ばれた少なくとも1種とを含有して成るポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ポジ型感放射線性レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-042974   出願人：富士通株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-165345   出願人：日本ゼオン株式会社
• 特開昭58-080636
  
• 特開平1-133045
  

審査官引用 (3件)

• ポジ型感放射線性レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-042974   出願人：富士通株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-165345   出願人：日本ゼオン株式会社
• 特開昭58-080636