特許

J-GLOBAL ID：200903013762019574

大気圧プラズマを利用した洗浄装置

発明者： 安藤 嘉章
出願人/特許権者： 株式会社アトム技研
代理人 (1件)： 越智 俊郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-350692
公開番号（公開出願番号）：特開2006-159009
出願日： 2004年12月03日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】装置の低コスト化と汎用性を持たせることを前提とし、プラズマ発生用ガスの消費量を少なくできると共に、洗浄効果を大きくできる大気圧プラズマを利用した洗浄装置を提供する。【解決手段】 対向する電極間P1,P2にプラズマ発生用のガスを送り込む入口Eと、発生したプラズマを送り出す出口Dとを有する大気圧プラズマ発生室10Kの前記出口近くにおいて、送り出されるプラズマ流速よりも高速に噴射でき、前記ガスと同一又は異なる種類の噴射用ガスを噴射させる噴射装置12を具備するよう構成する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

対向する電極間にプラズマ発生用のガスを送り込む入口と、発生したプラズマを送り出す出口とを有する大気圧プラズマ発生室の前記出口近くにおいて、送り出されるプラズマ流速よりも高速に噴射でき、前記ガスと同一又は異なる種類のガスを噴射させる噴射装置を具備することを特徴とする大気圧プラズマを利用した洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 7/00 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

B08B7/00 ,  H01L21/304 645C

Fターム (4件)：

3B116AA02 ,  3B116AB01 ,  3B116BB21 ,  3B116BC01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 液晶ディスプレイ用ガラス基板の洗浄方法および前処理方法ならびに大気圧プラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-296521   出願人：エア・ウォーター株式会社