真空蒸着装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-082035
公開番号（公開出願番号）：特開2001-262319
出願日： 2000年03月23日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【課題】坩堝内の蒸発材料を有効に使用出来る真空蒸着装置を提供する事にある。を提供すること。【解決手段】真空槽内で走行する基板に電子線を照射する事で蒸着膜を形成可能な蒸着装置において、蒸発材料を保持するための坩堝内壁部にグラファイト成分が95%以上からなる炭素材料の板を設置する。

請求項（抜粋）：

真空槽内の蒸着材料に電子線を照射する事で槽内を走行する基板に蒸着膜を形成可能な真空蒸着装置において、蒸着材料を保持する坩堝内壁部に少なくともグラファイト成分が95%以上からなる炭素材料の板を設置する事を特徴とする真空蒸着装置。

Fターム (3件)：

4K029CA01 , 4K029DB12 , 4K029DB21

引用特許：

審査官引用 (4件)

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