特許
J-GLOBAL ID：200903013881978482
フォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-152114
公開番号（公開出願番号）：特開平9-007942
出願日： 1996年06月13日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：
【要約】【課題】 波長の干渉現象を最大限に相殺して、露光装置の解像力の限界を向上することができるフォトマスクを提供することに目的がある。【解決手段】 本発明は、フォトマスクのパターンの縁部分の一部又は全部を一定の鋸歯型になるように形成する。
請求項（抜粋）：
石英基板と光遮断領域を有するフォトマスクにおいて、前記光遮断領域の縁の部分が鋸歯型になるように形成されたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 502 P
, G03F 1/08 A
, H01L 21/30 528
