有害物質処理装置および排水処理システム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奥山尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-258974
公開番号（公開出願番号）：特開2003-062586
出願日： 2001年08月29日
公開日（公表日）： 2003年03月04日
要約：

【要約】【課題】反応処理槽が腐食した場合でも容易に対応が可能で、汚水の処理水量が増減した場合でも設計変更が容易にでき、かつUVランプなどの保守管理の作業も軽減することができる有害物質処理装置を提供する。【解決手段】オゾン26を導入するためのオゾン導入手段12と、紫外線(UV)を照射するための紫外線照射ランプ18とを備えてなる反応処理槽10を、少なくとも2以上備えてなり、該反応処理槽10は互いに着脱可能であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

オゾンを導入するためのオゾン導入手段と、紫外線を照射するための紫外線照射ランプとを備えてなる反応処理槽を、少なくとも2以上備えてなり、該反応処理槽は互いに着脱可能であることを特徴とする有害物質処理装置。

IPC (6件)：

C02F 1/78 ZAB , A62D 3/00 , C02F 1/32 , C07B 37/06 , C07C 21/10 , C07D319/24

FI (6件)：

C02F 1/78 ZAB , A62D 3/00 , C02F 1/32 , C07B 37/06 , C07C 21/10 , C07D319/24

Fターム (24件)：

2E191BA15 , 2E191BB00 , 2E191BC01 , 2E191BD11 , 4D037AA11 , 4D037AB14 , 4D037BA18 , 4D037BB05 , 4D037CA02 , 4D037CA08 , 4D037CA12 , 4D050AA02 , 4D050AA13 , 4D050AB19 , 4D050BB02 , 4D050BB09 , 4D050BC09 , 4D050BD06 , 4D050CA15 , 4D050CA16 , 4H006AC26 , 4H006BA95 , 4H006BD60 , 4H006BE31

引用特許：

審査官引用 (1件)

オゾン/紫外線隔式循環酸化処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-252744 出願人：日立プラント建設株式会社

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