特許

J-GLOBAL ID：200903078986516969

オゾン/紫外線隔式循環酸化処理装置

発明者： 井坂 和一 ,  山田 裕之 ,  角野 立夫
出願人/特許権者： 日立プラント建設株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-252744
公開番号（公開出願番号）：特開2001-070958
出願日： 1999年09月07日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】 導入したオゾンガスをできるだけ有効に消費し、オゾンガスによる紫外線透過阻害を起こさず、廃水中のダイオキシン等の微量化学物質を効率よく安価に酸化処理しうる酸化処理装置を提供するコト。【解決手段】 オゾンと紫外線を併用して廃水を酸化処理する装置において、一つの反応槽1を遮光板2で仕切ることにより、オゾン溶解部3と紫外線照射部4とに区分したことを特徴とするオゾン/紫外線隔式循環酸化処理装置。

請求項（抜粋）：

オゾンと紫外線を併用して廃水を酸化処理する装置において、1つの反応槽を遮光板で仕切ることにより、オゾン溶解部と紫外線照射部とに区分したことを特徴とするオゾン/紫外線隔式循環酸化処理装置。

IPC (3件)：

C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/78

FI (3件)：

C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/78

Fターム (13件)：

4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BB05 ,  4D037CA12 ,  4D050AA12 ,  4D050AB07 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光反応液体処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-250947   出願人：株式会社日立製作所
• 特公昭57-041992
  
• 特開昭55-147192