特許

J-GLOBAL ID：200903013935564131

部分凝縮による半導体プロセス用薬品の精製方法及び装置

発明者： ヤオ - エン・リー ,  ジョン・リゾス
出願人/特許権者： レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-203227
公開番号（公開出願番号）：特開平7-240407
出願日： 1994年08月29日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：

【要約】【目的】加圧された液体を部分的に凝縮された状態に膨脹させることにより、半導体プロセスに用いることができる超高純度薬品を得る。【構成】半導体プロセスに用いる薬品類を超高純度に精製する方法及び装置。該精製方法はEGS級薬品から不純物を除去するために凝縮器(21)の内側にあるオリフィス(17)を通してEGS級薬品を膨脹する工程を含む。膨脹工程中高沸点不純物は液体相に残留し、蒸気相中の不純物はスカベンジャー技術により少なくとも部分的に除去される。精製後、超高純度ガスは半導体製造プロセス(24)へ搬送される。該製造工程は乾式及び湿式プロセスの両方を含む。又、該方法は大容量現場精製システム(30)、使用精製装置のオンライン先端部(50)又は小容量移送充填精製システム(70)に組み込まれる。

請求項（抜粋）：

半導体プロセスに用いる薬品類を超高純度に精製する方法において、該方法は、不純物を含む加圧された液体を供給する工程、該加圧された液体を、少なくとも蒸気相及び液体相を有する部分的に凝縮された状態に膨脹する工程であって、該加圧された液体から該液体相中に選択的に不純物を濃縮する膨脹工程、該蒸気相の部分を回収する工程、及び該蒸気相の部分を半導体製造プロセスに用いる工程、を包含する半導体プロセスに用いる薬品類を超高純度に精製する方法。

IPC (2件)：

H01L 21/308 ,  C01B 7/07

引用特許：

審査官引用 (5件)

• プロセスガス供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-307926   出願人：川崎製鉄株式会社
• 特開平1-237434
  
• 特開昭64-018403
  
• 特開平1-237434
  
• 特開昭64-018403