特許

J-GLOBAL ID：200903013943465657

研磨用吸着パッド及びその製造方法

発明者： 矢野 忠史 ,  榊原 健一
出願人/特許権者： 株式会社イノアックコーポレーション
代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-164499
公開番号（公開出願番号）：特開2006-334745
出願日： 2005年06月03日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：

【課題】 研磨時には研磨対象物を良好に吸着することができるとともに、研磨後には研磨対象物を容易に脱着することができる研磨用吸着パッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】 研磨用吸着パッド11は、連続気泡構造を有するポリウレタン発泡体よりなる板状体19の一方の面を研磨対象物としての液晶ガラス14の吸着面21とし、該吸着面21には内部より密度の高い発泡体の皮膜を有するとともに、その皮膜表面には撥水性付与剤による撥水性を有している。そして、研磨時には研磨用吸着パッド11の表面に液晶ガラス14が吸着され、研磨後には研磨用吸着パッド11から液晶ガラス14が脱着されるように構成されている。研磨用吸着パッド11の吸着面21における接触角は95〜115°であることが好ましい。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

研磨対象物を吸着し、その状態で研磨用スラリーにより研磨対象物を研磨するための研磨用吸着パッドであって、 連続気泡構造を有するポリウレタン発泡体よりなる板状体の一方の面を研磨対象物の吸着面とし、該吸着面には内部より密度の高い発泡体の皮膜を有するとともに、その皮膜表面には撥水性付与剤による撥水性を有し、研磨時には研磨対象物が吸着され、研磨後には研磨対象物が脱着されるように構成されていることを特徴とする研磨用吸着パッド。

IPC (2件)：

B24B 37/00 ,  C08G 18/79

FI (2件)：

B24B37/00 C ,  C08G18/79 W

Fターム (62件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17 ,  4J034BA08 ,  4J034CA02 ,  4J034CA03 ,  4J034CA04 ,  4J034CA05 ,  4J034CB01 ,  4J034CB03 ,  4J034CB04 ,  4J034CB05 ,  4J034CB07 ,  4J034CC03 ,  4J034DA01 ,  4J034DB04 ,  4J034DC06 ,  4J034DC37 ,  4J034DC42 ,  4J034DC43 ,  4J034DC50 ,  4J034DF01 ,  4J034DF11 ,  4J034DF16 ,  4J034DF20 ,  4J034DF22 ,  4J034DG04 ,  4J034DG06 ,  4J034DG14 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC13 ,  4J034HC17 ,  4J034HC22 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC64 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034JA42 ,  4J034KB05 ,  4J034KC17 ,  4J034KD02 ,  4J034KD04 ,  4J034KD12 ,  4J034NA01 ,  4J034NA02 ,  4J034NA03 ,  4J034QB01 ,  4J034QB14 ,  4J034QB16 ,  4J034QB17 ,  4J034QC02 ,  4J034QC08 ,  4J034QD03 ,  4J034QD04 ,  4J034QD06 ,  4J034RA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ガラス基板の片面研磨における研磨液の供給方法および片面研磨装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-067230   出願人：セントラル硝子株式会社