特許
J-GLOBAL ID:200903013958917180
耐液性に優れた反射防止膜
発明者:
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,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 郁男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-019097
公開番号(公開出願番号):特開2002-221602
出願日: 2001年01月26日
公開日(公表日): 2002年08月09日
要約:
【要約】【課題】 透光性基板の上に多層コーティングによって簡単に形成することができ、しかも耐液性に優れた反射防止膜を提供するにある。【解決手段】 透光性を有する基板上にコーティングにより形成された少なくとも2層からなる反射防止膜において、表面側から第1の層が膜厚50〜200nm、第2の層が膜厚50〜200nmであり、第1の層が下記式(I)Rn-Si(OR1)4-n..(I)式中、Rは置換或いは未置換のアルキル基またはアルケニル基であり、R1はアルキル基またはアルコキシアルキル基であり、nは1または2の数である、で表される化合物の加水分解物、金属キレート化合物と低屈折率シリカゾルとから形成されていることを特徴とする耐液性に優れた反射防止膜。
請求項(抜粋):
透光性を有する基板上にコーティングにより形成された少なくとも2層からなる反射防止膜において、表面側から第1の層が膜厚50〜200nm、第2の層が膜厚50〜200nmであり、第1の層が下記式(I)Rn-Si(OR1)4-n..(I)式中、Rは置換或いは未置換のアルキル基またはアルケニル基であり、R1はアルキル基またはアルコキシアルキル基であり、nは1または2の数である、で表される化合物の加水分解物、金属キレート化合物と低屈折率シリカゾルとから形成されていることを特徴とする耐液性に優れた反射防止膜。
IPC (11件):
G02B 1/11
, B05D 1/36
, B05D 5/06
, B05D 7/24 302
, B32B 7/02 103
, B32B 9/00
, C09D 5/00
, C09D183/04
, C09D185/00
, C09K 3/00
, G09F 9/00 313
FI (11件):
B05D 1/36 Z
, B05D 5/06 F
, B05D 7/24 302 Y
, B32B 7/02 103
, B32B 9/00 Z
, C09D 5/00 Z
, C09D183/04
, C09D185/00
, C09K 3/00 U
, G09F 9/00 313
, G02B 1/10 A
Fターム (103件):
2K009AA05
, 2K009AA06
, 2K009BB14
, 2K009CC02
, 2K009CC09
, 2K009CC21
, 2K009CC33
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 2K009DD06
, 2K009EE00
, 4D075AE03
, 4D075AE27
, 4D075CA02
, 4D075CA03
, 4D075CA13
, 4D075CA34
, 4D075CA44
, 4D075CB02
, 4D075CB06
, 4D075DA06
, 4D075DB37
, 4D075DB43
, 4D075DB48
, 4D075DC24
, 4D075EA12
, 4D075EB16
, 4D075EB22
, 4D075EB32
, 4D075EB33
, 4D075EB36
, 4D075EB38
, 4D075EB39
, 4D075EB43
, 4D075EC03
, 4D075EC08
, 4D075EC24
, 4D075EC45
, 4D075EC51
, 4D075EC53
, 4F100AA20B
, 4F100AA20C
, 4F100AA20H
, 4F100AB01C
, 4F100AB10B
, 4F100AB12B
, 4F100AB19B
, 4F100AB21B
, 4F100AH02C
, 4F100AH06B
, 4F100AH06C
, 4F100AK25
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100BA25
, 4F100BA26
, 4F100DE01B
, 4F100DE04B
, 4F100EH46
, 4F100EH462
, 4F100EJ42
, 4F100EJ422
, 4F100JB07
, 4F100JM01B
, 4F100JM01C
, 4F100JN01A
, 4F100JN06
, 4F100JN06B
, 4F100JN06C
, 4F100JN18A
, 4F100JN18B
, 4F100JN18C
, 4F100YY00A
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 4J038DL051
, 4J038DL071
, 4J038DL081
, 4J038DL111
, 4J038DL121
, 4J038DM022
, 4J038HA166
, 4J038HA446
, 4J038KA06
, 4J038NA04
, 4J038NA19
, 4J038PA19
, 4J038PB08
, 4J038PB09
, 4J038PB11
, 4J038PC08
, 5G435AA00
, 5G435BB02
, 5G435BB06
, 5G435BB12
, 5G435FF02
, 5G435HH02
, 5G435HH03
, 5G435KK07
, 5G435LL07
引用特許:
審査官引用 (5件)
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反射防止膜およびそれを配置した表示装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-076177
出願人:富士写真フイルム株式会社
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特開昭63-293502
-
光学的材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-193722
出願人:フクビ化学工業株式会社
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