特許
J-GLOBAL ID：200903013997712404
反射防止積層体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-034947
公開番号（公開出願番号）：特開2002-235036
出願日： 2001年02月13日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【課題】本発明は、低屈折率と実用上十分な物理的強度を有し、しかも安価で、防汚性、生産性等に優れた反射防止積層体を提供することを目的とする。【解決手段】プラスチックやガラス等の透明基材の少なくとも片面に、下記一般式(A)と一般式(B)で表されるフッ素含有ケイ素化合物、およびその加水分解物とを主成分とする低屈折率コーティング剤を塗布形成された低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止積層体でる。一般式(A) Si(OR)<SB>4</SB>(ただし、Rはアルキル基)で表されるSiアルコキシド、およびその加水分解物一般式(B) CF<SB>3</SB>-(CF<SB>2</SB>)<SB>p</SB>-(CH)<SB>n</SB>-Si(OR)<SB>3</SB>(ただし、pは0≦p≦8の整数、nはn<5の整数、Rはアルキル基)
請求項（抜粋）：
プラスチックやガラス等の透明基材の少なくとも片面に、一般式(A) Si(OR)<SB>4</SB>(ただし、Rはアルキル基)で表されるSiアルコキシド、およびその加水分解物と、 一般式(B) CF<SB>3</SB>-(CF<SB>2</SB>)<SB>p</SB>-(CH)<SB>n</SB>-Si(OR)<SB>3</SB>(ただし、pは0≦p≦8の整数、nはn<5の整数、Rはアルキル基)で表されるフッ素含有ケイ素化合物、およびその加水分解物とを主成分とする低屈折率コーティング剤を塗布形成された低屈折率層を設けたことを特徴とする反射防止積層体。
IPC (8件)：
C09D183/02
, B05D 5/06
, B32B 7/02 103
, B32B 27/00 101
, C09D 5/32
, C09D175/14
, C09D183/08
, G02B 1/11
C09D183/02
, B05D 5/06 F
, B32B 7/02 103
, B32B 27/00 101
, C09D 5/32
, C09D175/14
, C09D183/08
, G02B 1/10 A
2K009AA04
, 2K009AA15
, 2K009BB02
, 2K009BB11
, 2K009BB28
, 2K009CC24
, 2K009CC26
, 2K009CC35
, 2K009CC42
, 2K009DD02
, 2K009DD05
, 2K009DD06
, 2K009EE05
, 4D075CA02
, 4D075CA13
, 4D075CA34
, 4D075CA47
, 4D075CB02
, 4D075DA04
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB31
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EA21
, 4D075EA43
, 4D075EB02
, 4D075EB19
, 4D075EB22
, 4D075EB38
, 4D075EB52
, 4D075EB56
, 4F100AG00A
, 4F100AJ06A
, 4F100AK01A
, 4F100AK01C
, 4F100AK25C
, 4F100AK25K
, 4F100AK51C
, 4F100AK51K
, 4F100AK52B
, 4F100AL06C
, 4F100AR00C
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100GB41
, 4F100JA07C
, 4F100JB14C
, 4F100JK06
, 4F100JK12C
, 4F100JN06
, 4F100JN18
, 4F100JN18B
, 4F100YY00C
, 4J038DL021
, 4J038DL072
, 4J038FA111
, 4J038FA281
, 4J038GA01
, 4J038JC31
, 4J038JC32
, 4J038MA14
, 4J038NA05
, 4J038NA19
, 4J038PA17
, 4J038PC03
, 4J038PC08
