特許

J-GLOBAL ID：200903014008198116

検査装置及び検査方法とその検査装置及び検査方法を用いたパターン基板の製造方法

発明者： 楠瀬 治彦
出願人/特許権者： レーザーテック株式会社
代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-078101
公開番号（公開出願番号）：特開2007-255959
出願日： 2006年03月22日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：

【課題】ウエハに転写されたパターンに線幅の誤差が発生する線幅欠陥を高感度に検出するパターン検査装置及びパターン検査方法を提供する。【解決手段】 照明光源11と、照明光源11からの光を集光して試料10に出射する照明光源系と、試料10の像を撮像するため、照明光源系から試料10に出射された光のうち試料10を透過又は反射した光の輝度を検出する検出器18と、検出器18から出力される輝度データに基づいて、第1の像に対して、第1の像に設けられたパターンの輪郭に対応する輪郭画素を抽出する輪郭画素抽出部233と、輪郭画素抽出部233で抽出された複数の輪郭画素の輝度データと、複数の輪郭画素に対応する第2の像の複数の画素との輝度データとに基づいて線幅欠陥を検出する欠陥検出部238とを備える検査装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

照明光を透過する透過パターンと、照明光を遮光する遮光パターンとが設けられている試料に基づく第1の像と第2の像とを比較して、前記試料に設けられているパターンの線幅欠陥を検出して検査を行う検査装置であって、 照明光源と、 前記照明光源からの光を集光して前記試料に出射する照明光源系と、 前記試料の像を撮像するため、前記照明光源系から前記試料に出射された光のうち前記試料を透過又は反射した光の輝度を検出する検出器と、 前記検出器から出力される輝度データに基づいて、前記第1の像に対して、前記第1の像に設けられたパターンの輪郭に対応する輪郭画素を抽出する輪郭画素抽出部と、 前記輪郭画素抽出部で抽出された複数の輪郭画素の輝度データと、前記複数の輪郭画素に対応する前記第2の像の複数の画素との輝度データとに基づいて線幅欠陥を検出する欠陥検出部とを備える検査装置。

IPC (5件)：

G01B 11/02 ,  G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G03F 1/00 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G01B11/02 H ,  G01N21/956 A ,  G01B11/24 K ,  G03F1/00 V ,  H01L21/30 502V

Fターム (46件)：

2F065AA22 ,  2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB23 ,  2F065CC18 ,  2F065DD04 ,  2F065FF02 ,  2F065GG12 ,  2F065HH13 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL30 ,  2F065MM02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ32 ,  2G051AA56 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA10 ,  2G051BB09 ,  2G051BB17 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051CC09 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA23 ,  2G051EC03 ,  2G051ED04 ,  2G051ED08 ,  2H095BD03 ,  2H095BD04 ,  2H095BD24

引用特許：

出願人引用 (1件)

• マスク欠陥検査装置及びマスク欠陥検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-005276   出願人：ソニー株式会社