特許

J-GLOBAL ID：200903014009499411

ビスフェノール製造用触媒、その調製方法及びビスフェノールの製造方法

発明者： 大久保 英主 ,  山本 貞明 ,  井上 薫 ,  井尾 博文 ,  青木 忍 ,  寺嶋 隆 ,  徳元 修一 ,  松井 和明 ,  高村 一夫
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-260279
公開番号（公開出願番号）：特開平10-225638
出願日： 1997年09月25日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：

【要約】【課題】 ビスフェノールを工業的に有利な不均一触媒を用いてケトン類とフェノール類から高転化率、高選択率で製造する方法を提供する。【解決手段】 ケトン類とフェノール類との反応において、触媒として高分子シロキサンマトリックスを形成しうる有機スルホン酸基含有シラン化合物および有機スルホン酸基含有低分子シロキサンよりなる群から選ばれた少なくとも1種と、高分子シロキサンマトリックスを形成しうるメルカプト基含有シラン化合物とを、加水分解し、次いで、得られた混合ゾルを脱水縮合することによるゲル化により、シリカマトリックスを形成したスルホン酸基およびメルカプト基を有する有機高分子シロキサンを使用する。

請求項（抜粋）：

1)高分子シロキサンマトリックスを形成しうる有機スルホン酸基含有シラン化合物および有機スルホン酸基含有低分子シロキサンよりなる群から選ばれた少なくとも1種と、高分子シロキサンマトリックスを形成しうるメルカプト基含有シラン化合物とを、または2)高分子シロキサンマトリックスを形成しうる有機スルホン酸基含有シラン化合物および有機スルホン酸基含有低分子シロキサンよりなる群から選ばれた少なくとも1種と、高分子シロキサンマトリックスを形成しうるメルカプト基含有シラン化合物と、一般式: Ra nSiX(4-n) (式中nは0又は1以上3以下の整数であり、Ra は炭素数1以上20以下の炭化水素基または含フッ素炭化水素基であり、Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基及びアルコキシ基よりなる群より選ばれた少なくとも1種であり、Siはケイ素原子を表す)で表されるシラン化合物の少なくとも1種とを、加水分解し、次いで、得られた混合ゾルを脱水縮合することによるゲル化により、シリカマトリックスを形成したスルホン酸基およびメルカプト基を有する有機高分子シロキサンとすることを特徴とするビスフェノール製造用触媒の調製方法。

IPC (4件)：

B01J 31/10 ,  C07C 37/20 ,  C07C 39/16 ,  C07B 61/00 300

FI (4件)：

B01J 31/10 Z ,  C07C 37/20 ,  C07C 39/16 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ビスフェノールAの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-141828   出願人：三井東圧化学株式会社
• 特開平2-196746