開始/制御剤の存在下でエチレンを高圧フリーラジカル重合または共重合する方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：越場隆
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-574579
公開番号（公開出願番号）：特表2002-526610
出願日： 1999年10月06日
公開日（公表日）： 2002年08月20日
要約：

【要約】【課題】エチレンを高圧ラジカル(共)重合する方法。【解決手段】 (共)重合条件下で分解して、全体で重合開始サイトが安定なラジカル状態を有するサイトの数と同じ数になるように、下記(1)および(2):(1) (共)重合を開始する少なくとも1つのサイトを有する少なくとも一種のフリーラジカル開始剤(Z)と、(2) 安定なラジカル状態を有する少なくとも1つのサイトを有し且つ重合条件下で安定している少なくとも一種の安定なフリーラジカル(SFR)と、を発生する少なくとも一種の重合開始/制御化合物の存在下でエチレンを高圧ラジカル重合または共重合する。

請求項（抜粋）：

(共)重合条件下で分解して、全体で重合開始サイトが安定なラジカル状態を有するサイトの数と同じ数になるように、下記(1)および(2):(1) (共)重合を開始する少なくとも1つのサイトを有する少なくとも一種のフリーラジカル開始剤(Z)と、(2) 安定なラジカル状態を有する少なくとも1つのサイトを有し且つ重合条件下で安定している少なくとも一種の安定なフリーラジカル(SFR)と、を発生する少なくとも一種の重合開始/制御化合物の存在下でエチレンを高圧ラジカル重合または共重合することを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C08F 4/00 , C08F 2/06 , C08F 2/38 , C08F 10/02

FI (4件)：

C08F 4/00 , C08F 2/06 , C08F 2/38 , C08F 10/02

Fターム (75件)：

4J011HA03 , 4J011HB02 , 4J011HB04 , 4J011HB22 , 4J011HB24 , 4J011NA12 , 4J011NA19 , 4J011NA30 , 4J011NB07 , 4J015EA04 , 4J100AA02P , 4J100AA03Q , 4J100AA04Q , 4J100AA06Q , 4J100AA09Q , 4J100AA15Q , 4J100AA16Q , 4J100AA17Q , 4J100AA18Q , 4J100AA19Q , 4J100AA21Q , 4J100AB00Q , 4J100AB02Q , 4J100AB03Q , 4J100AB04Q , 4J100AB07Q , 4J100AB08Q , 4J100AC03Q , 4J100AC23Q , 4J100AC24Q , 4J100AE03Q , 4J100AE04Q , 4J100AG02Q , 4J100AG04Q , 4J100AJ01Q , 4J100AJ02Q , 4J100AJ08Q , 4J100AJ09Q , 4J100AK31Q , 4J100AK32Q , 4J100AL02Q , 4J100AL03Q , 4J100AL04Q , 4J100AL05Q , 4J100AL08Q , 4J100AL09Q , 4J100AL10Q , 4J100AR16Q , 4J100AR17Q , 4J100AR21Q , 4J100AS02Q , 4J100AS03Q , 4J100AS04Q , 4J100AS07Q , 4J100AS11Q , 4J100AU21Q , 4J100BA03Q , 4J100BA04Q , 4J100BA05Q , 4J100BA06Q , 4J100BA53Q , 4J100BB18Q , 4J100BC02Q , 4J100BC04Q , 4J100BC08Q , 4J100BC43Q , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100FA03 , 4J100FA04 , 4J100FA06 , 4J100FA19 , 4J100FA28 , 4J100FA29 , 4J100FA30

引用特許：

審査官引用 (4件)

フリーラジカル重合方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-325795 出願人：ゼロックスコーポレイション
β置換ニトロキシドラジカルの存在下の重合
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-524026 出願人：エルフ・アトケム・エス・アー
特開昭60-089452

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