特許
J-GLOBAL ID:200903014193269652

光ディスク原盤の製造装置及びその方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤村 元彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-280304
公開番号(公開出願番号):特開2002-092976
出願日: 2000年09月14日
公開日(公表日): 2002年03月29日
要約:
【要約】【目的】 高精度の光ディスク原盤の作製が可能な光ディスク原盤製造装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】 電子ビームを射出する電子ビーム射出手段と、電子ビームを収束せしめる電子ビーム収束手段と、電子ビームの電子線を減速せしめる大きさの負電位を基板に印加する手段と、チャンバ内を排気して真空雰囲気を生成する真空雰囲気生成手段と、を有する。また、基板を載置するターンテーブルは、基板の外縁部に隣接し、真空雰囲気よりも低い所定の抵抗値を有する隣接部を含む。
請求項(抜粋):
チャンバ内に設けられたターンテーブルに載置された基板に電子ビームを照射して光ディスク原盤を製造する製造装置であって、前記電子ビームを射出する電子ビーム射出手段と、前記電子ビームを収束せしめる電子ビーム収束手段と、前記電子ビームの電子線を減速せしめる大きさの負電位を前記基板に印加する手段と、前記チャンバ内を排気して真空雰囲気を生成する真空雰囲気生成手段と、を有することを特徴とする製造装置。
Fターム (3件):
5D121BB32 ,  5D121BB38 ,  5D121GG02
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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