特許
J-GLOBAL ID：200903057131721630
パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-016619
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303125
出願日： 1998年01月29日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 電子ビーム露光装置の持つ光を越える優れた解像力と光ステッパの持つ高いスループットの双方を生かし、微細パターンを高いスループットで形成することができ、かつパターンの重ね合わせ精度の向上をはかる。【解決手段】 ウェハ5上に形成されたレジストに所望パターンを露光してレジストパターンを形成するパターン形成方法において、光ステッパ1と電子ビーム露光装置2を用いて同一のレジストにパターンの露光を行い、かつ先に行った露光によりレジスト中に形成されたパターンの潜像を検出し、この潜像に対して後から行う露光のパターンを位置合わせする。
請求項（抜粋）：
被処理基板上に形成された感光材に所望パターンを露光して該感光材にパターンを形成するパターン形成方法において、複数種の露光装置を用いて同一の感光材に露光を行い、かつ先に行った露光により感光材中に形成されたパターンの潜像を検出し、この潜像に対して後から行う露光のパターンを位置合わせすることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 502 A
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 541 W
