特許

J-GLOBAL ID：200903014216800172

機能性積層膜の形成方法、積層薄膜デバイス、有機エレクトロルミネッセンス表示装置

発明者： ▲高▼島 洋祐
出願人/特許権者： コニカミノルタホールディングス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-301327
公開番号（公開出願番号）：特開2008-117689
出願日： 2006年11月07日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：

【課題】成膜対象となる面の性質と、積層する塗布液に使用する溶剤との関係を考慮しないで機能性積層膜を形成する機能性積層膜の形成方法、この形成方法で製造した積層薄膜デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置の提供。【解決手段】基材上に第1機能性薄膜に対して溶解性を示す溶媒を用いた第2機能性薄膜形成用塗布液を使用し、前記第1機能性薄膜の上に隣接して前記第2機能性薄膜を液滴吐出法で形成する機能性積層膜の形成方法において、前記基材に第1機能性薄膜を形成する第1機能性薄膜形成工程と、前記第1機能性薄膜を形成した前記基材を加熱する加熱処理工程と、前記第1機能性薄膜の上に第2機能性薄膜形成用塗布液を液滴として供給する第2機能性薄膜形成用液滴供給工程と、前記第2機能性薄膜に対して溶剤を供給する溶剤供給工程と、溶剤除去工程とを有することを特徴とする機能性積層膜の形成方法。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基材上に少なくとも第1機能性薄膜と、第2機能性薄膜とを有する機能性積層膜を、前記第1機能性薄膜に対して溶解性を示す溶媒を用いた第2機能性薄膜形成用塗布液を使用し、前記第1機能性薄膜の上に隣接して前記第2機能性薄膜を液滴吐出法で形成する機能性積層膜の形成方法において、前記機能性積層膜の形成方法が、 前記基材に第1機能性薄膜を形成する第1機能性薄膜形成工程と、 前記第1機能性薄膜を形成した前記基材を加熱する加熱処理工程と、 前記第1機能性薄膜の上に第2機能性薄膜形成用塗布液を液滴として供給する第2機能性薄膜形成用液滴供給工程と、 前記第2機能性薄膜に対して溶剤を供給する溶剤供給工程と、 前記溶剤を除去する溶剤除去工程とを有することを特徴とする機能性積層膜の形成方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/10

FI (4件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  B05D1/26 Z ,  B05D3/10 H

Fターム (41件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107CC45 ,  3K107FF15 ,  3K107GG08 ,  3K107GG28 ,  4D075AC06 ,  4D075AC09 ,  4D075AC88 ,  4D075AC91 ,  4D075AC92 ,  4D075AC93 ,  4D075AE04 ,  4D075AE16 ,  4D075AE27 ,  4D075BB24Y ,  4D075BB24Z ,  4D075BB69Z ,  4D075BB92Z ,  4D075CA47 ,  4D075CB08 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB33 ,  4D075DB36 ,  4D075DB37 ,  4D075DB38 ,  4D075DB39 ,  4D075DB40 ,  4D075DB43 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075DB55 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EC07 ,  4D075EC30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 薄膜形成方法、薄膜デバイス、電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-365918   出願人：セイコーエプソン株式会社