特許

J-GLOBAL ID：200903014224895832

潜像崩壊に耐性のあるディープUV感受性フォトレジスト組成物

発明者： リチャード エム.ラザラス ,  トーマス アラン コーズ
出願人/特許権者： モートン インターナショナル,インコーポレイティド
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-034687
公開番号（公開出願番号）：特開平6-301201
出願日： 1994年03月04日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：

【要約】【目的】 UV照射後、ベーキング工程前の延長された時間に向上したクリティカルディメンジョン安定性を有するポジティブワーキングディープUV感受性フォトレジストを提供する。【構成】 ポジティブワーキングディープUV感受性フォトレジストは、水に不溶性であるが、水性アルカリ媒体中で通常溶解性である酸安定ポリマー、3,5-ジニトロ-2,6-ジメチロールパラクレゾールのトリ-(2,1,4-ジアゾナフトキノンスルホネート)エステルによって代表される光酸発生体、並びに第三ブチルアルコールおよびポリヒドリックフェノールの混合されたカーボネートエステル(前記のアルカリ媒体中で通常に可溶性のポリマーの溶解を抑制する酸不安定化合物である)を含む。

請求項（抜粋）：

水に不溶性であるが、通常、水性アルカリ媒体中に可溶性であるポリマー、式、【化1】(ここで、Qはジアゾナフトキノン部分であり、Rは水素または-CH2 OS(=O)2 -Q部分であり、R1 は水素、ヒドロキシルまたは-O-S(=O)2-Qであり、R2 は水素または低級アルキルであり、Xは水素またはニトロ基であり、但し、Xがニトロ基であるとき、R2 は低級アルキルである。)を有する光酸発生体、および、前記のアルカリ媒体中に通常に可溶性のポリマーの溶解のためのの離散した酸不安定抑制剤である多価フェノールおよび第三ブチルアルコールの混合されたカーボネートエステルを含むポジティブワーキングフォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光化学的に酸を発生するフォトレジスト用化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-004482   出願人：モートンインターナショナル,インコーポレイティド