特許

J-GLOBAL ID：200903014270281970

RTPチャンバのための磁気的浮上型回転装置

発明者： ティーツ,ジェイムズ,ヴィ. ,  ビアマン,ベンジャミン
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-549491
公開番号（公開出願番号）：特表2000-515331
出願日： 1998年05月12日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：

【要約】RTPチャンバにおける磁気的浮遊回転システムのための適応が提供される。該システムは、磁気的透過が可能なロータと、該ロータを囲み、該ロータと同心円の円筒状薄壁と、該円筒状薄壁に隣接する磁気ステータアセンブリを含む。ロータと磁気ステータアセンブリとの間の半径方向の距離は、該ステータアセンブリによて発生された磁場が、ロータを磁気的に浮遊させるのに充分に小さいが、熱膨張の際にもロータが薄壁に物理的に接触しないのに充分に大きい。該システムは、回転フレームの位置を決定する複数のセンサの相対的位置が、装備を除去した場合にも維持されるようなものである。ロータを含む領域の熱的な隔離は、RTPチャンバのプロセス領域中のプロセスガスから達成される。該ロータは、該チャンバ中に形成された、ある数の冷却チャンバによって冷却することができる。

請求項（抜粋）：

磁力により浮揚する回転システムであって、 透磁性のロータと、 前記ロータと同心にこれを取り囲む、円筒状薄壁と、 前記円筒状薄壁に隣設する磁気ステータ組立体とを備え、前記ロータと前記磁気ステータ組立体との半径方向の距離が、前記磁気ステータ組立体により発生する磁界が前記ロータを磁力により浮揚させる程度に十分小さく、また、前記ロータが熱膨張の際に前記薄壁と物理的に接触しない程度に十分大きい回転システム。

IPC (2件)：

H01L 21/26 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/26 G ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 集積された磁気浮揚及び回転装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-516694   出願人：サトコンテクノロジーコーポレイション
• マイクロエレクトロニクス製造装置用プログラマブル超クリーン電磁サブストレート回転装置及び方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-505985   出願人：シーヴィシープラダクツインク
• 特開昭60-219724
  
• 特開昭60-219724