特許

J-GLOBAL ID：200903014288716010

被膜除去方法および被膜除去剤

発明者： 大 野 怜 子 ,  松 岡 輝 美
出願人/特許権者： 岩手東芝エレクトロニクス株式会社 ,  クロリンエンジニアズ株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-088551
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297163
出願日： 1994年04月26日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】 ウエーハに付着する有機被膜や金属汚染被膜等の被膜を簡便に効率的に除去できる被膜除去方法およびそのための被膜除去剤を提供する。【構成】 被膜除去方法は、希フッ化水素水溶液と希塩酸との混合液等の酸の水溶液(12)の中にオゾン(13)を注入する工程と、この注入する工程により生じる気泡(18)にウエーハ等の基台(16)に付着された有機被膜または金属汚染被膜等の被膜(17)を接触させこの被膜(17)を基台(16)から除去する工程を備えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

酸の水溶液の中にオゾンを注入する工程と、前記注入する工程により生じる気泡に基台に付着された被膜を接触させこの被膜を基台から除去する工程とを備えることを特徴とする被膜除去方法。

IPC (6件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308 ,  B08B 3/08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-103124
  
• 特開昭58-100433
  
• 基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-315068   出願人：クロリンエンジニアズ株式会社