特許
J-GLOBAL ID：200903014333535870

磁気抵抗効果素子及びその製造方法

発明者：
奥野 潤

奥野 潤 について

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庄子 光治

庄子 光治 について

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宮田 幸児

宮田 幸児 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (2件)： 山本 孝久 ,  吉井 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-157564
公開番号（公開出願番号）：特開2009-302434
出願日： 2008年06月17日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：
【課題】所望の形状を有する記録層を確実に形成し得る磁気抵抗効果素子の製造方法を提供する。【解決手段】記録層、非磁性体膜及び磁化参照層が積層されて成る情報記録構造体を備えており、記録層の平面形状は平行四辺形である磁気抵抗効果素子の製造方法は、記録層、非磁性体膜及び磁化参照層が積層されて成る積層構造体及び第1のマスク層61を形成し、次いで、第1のマスク層61上に、前記平行四辺形の一組の対辺と平行な2辺を有する第2のマスク層62を形成して第1のマスク層61をパターニングし、次いで、積層構造体及び第1のマスク層上に、前記平行四辺形の他の対辺と平行な2辺を有する第3のマスク層63を形成して第1のマスク層61をパターニングし、平行四辺形の平面形状を有する第1のマスク層61を得た後、記録層をパターニングし、平行四辺形の平面形状を有する記録層を得る各工程を有する。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
電流によるスピン注入磁化反転に基づき情報が書き込まれる記録層、非磁性体膜及び磁化参照層が積層されて成る情報記録構造体を備えており、記録層の平面形状は平行四辺形である磁気抵抗効果素子の製造方法であって、 (A)記録層、非磁性体膜及び磁化参照層が積層されて成る積層構造体を形成した後、積層構造体上に第1のマスク層を形成し、次いで、 (B)第1のマスク層上に、前記平行四辺形の一組の対辺と平行な2辺を有する第2のマスク層を形成した後、第2のマスク層をパターニング用マスクとして第1のマスク層をパターニングし、次いで、第2のマスク層を除去し、 (C)積層構造体及び第1のマスク層上に、前記平行四辺形の他の対辺と平行な2辺を有する第3のマスク層を形成し、次いで、第3のマスク層をパターニング用マスクとして第1のマスク層をパターニングした後、第3のマスク層を除去し、平行四辺形の平面形状を有する第1のマスク層を得た後、 (D)第1のマスク層をパターニング用マスクとして記録層をパターニングし、平行四辺形の平面形状を有する記録層を得る、 各工程を有する磁気抵抗効果素子の製造方法。
IPC (4件)：
H01L 43/08 ,  H01L 43/12 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/105
FI (4件)：
H01L43/08 P ,  H01L43/12 ,  H01L43/08 Z ,  H01L27/10 447
Fターム (42件)：
4M119BB01 ,  4M119CC05 ,  4M119DD09 ,  4M119DD27 ,  4M119DD33 ,  4M119DD44 ,  4M119EE22 ,  4M119EE27 ,  4M119FF05 ,  4M119FF16 ,  4M119JJ03 ,  4M119JJ12 ,  4M119JJ13 ,  5F092AA08 ,  5F092AB08 ,  5F092AC08 ,  5F092AC12 ,  5F092AD25 ,  5F092BB10 ,  5F092BB17 ,  5F092BB18 ,  5F092BB22 ,  5F092BB23 ,  5F092BB24 ,  5F092BB31 ,  5F092BB33 ,  5F092BB34 ,  5F092BB35 ,  5F092BB36 ,  5F092BB37 ,  5F092BB42 ,  5F092BB43 ,  5F092BB44 ,  5F092BC04 ,  5F092BC07 ,  5F092BC42 ,  5F092CA02 ,  5F092CA06 ,  5F092CA14 ,  5F092CA15 ,  5F092CA23 ,  5F092EA01
引用特許：
出願人引用 (2件)

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