特許
J-GLOBAL ID:200903014352246464

光硬化性シートの製造方法、光硬化性シートおよびインサート成形品の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-011142
公開番号(公開出願番号):特開2003-285006
出願日: 2003年01月20日
公開日(公表日): 2003年10月07日
要約:
【要約】【課題】 意匠性の良好な成形品の製造に有利に用いることのできる、耐磨耗性、耐候性および耐薬品性に優れ、かつ、表面粘着性がなく、加工性および保存安定性に優れた光硬化性シートを安定して製造する方法を提供する。【解決手段】 光硬化性樹脂組成物(A)および溶剤(S)を含む混合溶液を基材シート(B)上に塗工する工程および塗工後の基材シート(B)を加熱して溶剤(S)を揮発させる工程を含む、光硬化性樹脂組成物(A)の層と基材シート(B)とを含む光硬化性シートの製造方法において、塗工時の基材シート(B)の流れ方向におけるテンションの値を所定範囲に維持する。
請求項(抜粋):
光硬化性樹脂組成物(A)および溶剤(S)を含む混合溶液を基材シート(B)上に塗工する工程および塗工後の基材シート(B)を加熱して溶剤(S)を揮発させる工程を含む、光硬化性樹脂組成物(A)の層と基材シート(B)とを含む光硬化性シートの製造方法であって、塗工時の基材シート(B)の流れ方向におけるテンション(F)の値が、下記式(1)を満たすことを特徴とする方法。 (0.5×9.8×w×d)/(640×125) < F < (10×9.8×w×d)/(640×125) (1)ここで、Fは基材シート(B)の流れ方向における塗工時のテンション(N)であり、wは基材シート(B)の幅(mm)であり、dは基材シート(B)の厚み(μm)である。
IPC (12件):
B05D 7/24 301 ,  B05D 7/04 ,  B29C 45/14 ,  B32B 27/00 ,  B32B 27/30 ,  C08J 7/18 CER ,  C08J 7/18 CEZ ,  C08K 3/36 ,  C08L 63/00 ,  C09J 7/02 ,  B29L 9:00 ,  C08L101:00
FI (12件):
B05D 7/24 301 T ,  B05D 7/04 ,  B29C 45/14 ,  B32B 27/00 E ,  B32B 27/30 A ,  C08J 7/18 CER ,  C08J 7/18 CEZ ,  C08K 3/36 ,  C08L 63/00 C ,  C09J 7/02 Z ,  B29L 9:00 ,  C08L101:00
Fターム (132件):
4D075AC41 ,  4D075BB24Y ,  4D075BB42Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB85X ,  4D075BB91Y ,  4D075CA02 ,  4D075CA06 ,  4D075CA32 ,  4D075CA38 ,  4D075CA44 ,  4D075CB06 ,  4D075DA03 ,  4D075DA06 ,  4D075DB33 ,  4D075DB35 ,  4D075DB36 ,  4D075DB37 ,  4D075DB38 ,  4D075DB39 ,  4D075DB40 ,  4D075DB43 ,  4D075DB48 ,  4D075DB50 ,  4D075DB53 ,  4D075DC02 ,  4D075DC08 ,  4D075DC13 ,  4D075DC18 ,  4D075DC24 ,  4D075DC38 ,  4D075DC41 ,  4D075EA07 ,  4D075EA17 ,  4D075EA21 ,  4D075EA35 ,  4D075EA41 ,  4D075EB20 ,  4D075EB22 ,  4D075EB33 ,  4D075EB38 ,  4D075EC03 ,  4D075EC30 ,  4D075EC37 ,  4F073AA07 ,  4F073AA13 ,  4F073BA03 ,  4F073BA08 ,  4F073BA13 ,  4F073BA15 ,  4F073BA17 ,  4F073BA18 ,  4F073BA19 ,  4F073BA23 ,  4F073BA26 ,  4F073BA28 ,  4F073BA29 ,  4F073BB01 ,  4F073CA42 ,  4F073CA45 ,  4F073CA53 ,  4F073FA03 ,  4F073FA07 ,  4F100AA00A ,  4F100AA20A ,  4F100AK25B ,  4F100AK53A ,  4F100AL01A ,  4F100AL05A ,  4F100AL06A ,  4F100AN02B ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100BA11C ,  4F100CA30A ,  4F100CB00D ,  4F100CC00A ,  4F100DE01A ,  4F100EH46A ,  4F100EH66C ,  4F100EJ05B ,  4F100EJ65D ,  4F100GB07 ,  4F100GB32 ,  4F100GB33 ,  4F100HB00 ,  4F100HB31C ,  4F100JB01 ,  4F100JB14A ,  4F100JB16B ,  4F100JK02A ,  4F100JK09 ,  4F100JL01 ,  4F100JL09 ,  4F100JL13 ,  4F100JN01 ,  4F100YY00A ,  4F206AD08 ,  4F206AD20 ,  4F206AD27 ,  4F206AG03 ,  4F206JA07 ,  4F206JB13 ,  4F206JB19 ,  4F206JF05 ,  4F206JW34 ,  4J002CD021 ,  4J002CD191 ,  4J002DJ016 ,  4J002GF00 ,  4J002GN00 ,  4J002GP00 ,  4J002GQ00 ,  4J004AA06 ,  4J004AA07 ,  4J004AA09 ,  4J004AA10 ,  4J004AA14 ,  4J004AA16 ,  4J004CA02 ,  4J004CA03 ,  4J004CA05 ,  4J004CA06 ,  4J004CC02 ,  4J004CC03 ,  4J004CD06
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 特開昭60-250925号公報
  • 特公昭59-36841号公報
  • 特公平8-2550号公報
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審査官引用 (4件)
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