特許

J-GLOBAL ID：200903035965625058

塗布方法及び装置

発明者： 山本 一公 ,  小野田 茂男 ,  清水 智仁 ,  村松 進 ,  鈴木 三善
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 池浦 敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-061023
公開番号（公開出願番号）：特開2001-246301
出願日： 2000年03月06日
公開日（公表日）： 2001年09月11日
要約：

【要約】【課題】 塗工速度領域が広く、厚手から薄手までの基材に塗膜形成が行なえる塗布方法を提供する。【解決手段】 フロントエッジとドクターエッジとを備え、これらのエッジ間のスロットから塗布液を連続して押し出して上記エッジに対向して背面を支持することなく連続走行する基材に塗布液を塗布する塗布方法において、ドクターエッジは円弧状に基材側に凸形状に湾曲して形成され、ドクターエッジはスロット出口に隣接する面取り部、これに連続する第1の湾曲部及び第1の湾曲部曲率半径より大きい曲率を持つ第2の湾曲部からなり、第2の湾曲部で基材を液膜により支持しつつ、基材による第1の湾曲部のラップ角を0〜45度可変することにより塗工膜厚を制御する。

請求項（抜粋）：

フロントエッジとドクターエッジとを備え、これらのエッジ間のスロットから塗布液を連続して押し出して、該エッジに対向して背面を支持することなく該フロントエッジ手前から該ドクターエッジ方向に連続走行する基材に該塗布液を塗布する方法において、該ドクターエッジは該スロット出口に隣接する面取り部、この面取り部に連続する第1の湾曲部、及び第1の湾曲部に連続しその曲率半径より大きい曲率半径をもつ第2の湾曲部を有し、かつこれら各部を合せた全体が該基材側に凸にほぼ円弧状に湾曲して形成されてなり、主として第2の湾曲部で該基材を液膜により支持しつつ、該基材による第1の湾曲部のラップ角を0〜45度の範囲で変えることにより塗工膜厚を制御することを特徴とする塗布方法。

IPC (3件)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 ,  B05D 7/00

FI (3件)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 7/00 A

Fターム (13件)：

4D075AC04 ,  4D075AC09 ,  4D075AC72 ,  4D075AC94 ,  4D075DA04 ,  4D075DB01 ,  4D075DB18 ,  4D075DB31 ,  4F041AA12 ,  4F041BA12 ,  4F041CA02 ,  4F041CA12 ,  4F041CA22

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 塗布方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-228366   出願人：帝人株式会社
• 塗布装置及び塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-116335   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 塗布装置及び塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-263693   出願人：コニカ株式会社