特許

J-GLOBAL ID：200903014405273361

画像パターンの検査方法及びその装置

発明者： 大前 貴雄 ,  寺前 勲 ,  佐野 鐵雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-021986
公開番号（公開出願番号）：特開平5-187842
出願日： 1992年01月09日
公開日（公表日）： 1993年07月27日
要約：

【要約】【目的】 両主面に配線パターンを有するプリント配線板の配線パターンの検査、あるいは複数種類のプリント配線板の配線パターンの検査等を能率よく行う。【構成】 プリント配線板2の両主面の配線パターンと比較すべき2種類の基準画像パターンを、高速読み出しが可能な2つの半導体メモリSM1、SM2にあらかじめ記憶する。配線パターンの欠陥の検査を行うときには、これらの半導体メモリSM1及びSM2の中から適当な1を選択して基準パターンを読み出す。欠陥の検査を行う中で、欠陥の個数を計数して所定の基準値を超えて欠陥の個数が大となったときには、欠陥の検出を中断して、複数の半導体メモリの中から他の1を選択して新たな基準パターンを読み出して、再度欠陥の検出をやり直す【効果】 基準画像パターンと検査すべき画像パターンとが誤って対応していないときでも欠陥の検査を能率よく行うことができる効果がある。

請求項（抜粋）：

検査対象画像パターンを基準画像パターンと比較して欠陥の検出を行う画像パターンの検査方法であって、(a)複数の記憶手段を準備する工程と、(b)複数の前記基準画像パターンの各1を前記記憶手段の各1にあらかじめ記憶信号として記憶させる工程と、(c)前記複数の記憶手段の中から1を選択して前記記憶信号を読み出すことにより、前記基準画像パターンを得る工程と、(d)前記検査対象画像パターンを得る工程と、(e)前記検査対象画像パターンと前記基準画像パターンとを比較して前記欠陥の検出を行う工程と、を備える画像パターンの検査方法。

IPC (4件)：

G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/62 405 ,  H05K 3/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-216905   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立コンピユータエレクトロニクス
• 特公昭55-032924
  
• 特開平2-230381
  
• 特開昭55-087283