特許

J-GLOBAL ID：200903014674974880

光学薄膜の製造方法及び光学薄膜

発明者： 川俣 健 ,  渡邊 正 ,  鵜澤 邦彦 ,  豊原 延好 ,  和田 順雄 ,  出口 武司
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-308894
公開番号（公開出願番号）：特開2003-114303
出願日： 2001年10月04日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】【課題】 フッ化物を含む基板やフッ化物薄膜上にイオンプレーティング法やイオンアシスト法で酸化物薄膜を形成するに際し、下地に光学的な吸収が発生することのない光学薄膜を作製する。【解決手段】 フッ化物を含む基板上またはフッ化物薄膜上に、真空蒸着法により酸化物膜を形成した後、酸化物膜の上にイオンプレーティング法またはイオンアシスト法により酸化物膜を形成する。真空蒸着法による酸化物膜がバリヤ層となって下地にイオンが衝突することを防ぐため、光学的な吸収が発生することがなくなる。

請求項（抜粋）：

フッ化物を含む基板上に、真空蒸着法により酸化物膜を形成した後、酸化物膜の上にイオンプレーティング法またはイオンアシスト法により酸化物膜を形成することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (7件)：

G02B 1/11 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/08 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/04 ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/30

FI (8件)：

C23C 14/06 P ,  C23C 14/08 ,  G02B 5/04 D ,  G02B 5/04 E ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/30 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z

Fターム (33件)：

2H042CA10 ,  2H042CA15 ,  2H042CA17 ,  2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA09 ,  2H048FA11 ,  2H048FA24 ,  2H049BA05 ,  2H049BA43 ,  2H049BC01 ,  2H049BC09 ,  2H049BC21 ,  2K009AA09 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009CC42 ,  2K009DD04 ,  2K009DD07 ,  2K009EE00 ,  4K029AA04 ,  4K029BA42 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BB02 ,  4K029BC08 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029CA09 ,  4K029EA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-138501
  
• 特開昭54-153044
  
• 光学部品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-006272   出願人：松下電器産業株式会社