特許

J-GLOBAL ID：200903014678984465

静電吸着方法

発明者： 長谷川 明広 ,  小林 雅哉 ,  木佐 俊正 ,  野田 省三
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-002168
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190654
出願日： 1992年01月09日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、静電吸着方法に関し、プラズマ中のウェハ温度の上昇を小さくすることができ、エッチングマスクとなるレジストを変形し難くして理想的なエッチング形状を得ることができ、しかも、プラズマ中のウェハ上の温度分布を小さくすることができ、エッチングレートの一様性及びウェハ面内でのエッチング形状を良好にすることができる静電吸着方法を提供することを目的とする。【構成】 ウェハを静電チャックに固定する方法において、該静電チャック電極の少なくとも1つの電極を該ウェハ外周に配置し、該ウェハ外周に配置された電極にプラス電圧を印加することにより該ウェハを該静電チャックに固定するように構成する。

請求項（抜粋）：

ウェハを静電チャックに固定する方法において、該静電チャック電極の少なくとも1つの電極を該ウェハ外周に配置し、該ウェハ外周に配置された電極にプラス電圧を印加することにより該ウェハを該静電チャックに固定することを特徴とする静電吸着方法。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/302

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 静電吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-018442   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭57-064950
  
• 特開昭52-079281