特許
J-GLOBAL ID：200903014919894284
有機EL素子の製造方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
成瀬 勝夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-390428
公開番号（公開出願番号）：特開2002-190389
出願日： 2000年12月22日
公開日（公表日）： 2002年07月05日
要約：
【要約】【課題】 機械的ショック等により蒸発源に混入し得る部位に析出する材料の変質を防止することで素子性能を悪化させず、しかも再生使用を目的に回収する材料の精製も容易とする。【解決手段】 蒸発源2中の有機EL材料3を気化し、成膜用基板4上で堆積させて薄膜を形成する有機EL薄膜蒸着において、成膜用基板4以外に該有機材料3が析出するチャンバー1又はシャッター5、6等の部品の材質を、該有機材料3が変質しない不活性な材質とする有機EL素子蒸着用装置である。また、この装置を使用した有機EL素子蒸着方法である。
請求項（抜粋）：
有機EL素子用の有機材料を気化し、成膜用基板上で堆積させて薄膜を形成する有機EL薄膜蒸着において、基板面以外で前記有機材料が堆積する装置内壁面及び装置内部に設置された部品を前記有機材料に対して不活性な材質とし、有機EL薄膜蒸着を行うことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10
, H05B 33/14
, C23C 14/00
, C23C 14/12
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, C23C 14/00 B
, C23C 14/12
3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4K029BA62
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029DA01
, 4K029DA09
, 4K029DA10
, 4K029DA12
