特許
J-GLOBAL ID:200903014946249820

基板処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫 ,  皆川 祐一 ,  五郎丸 正巳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-077798
公開番号(公開出願番号):特開2009-231710
出願日: 2008年03月25日
公開日(公表日): 2009年10月08日
要約:
【課題】処理カップ内における気液分離効率を低下させることなく、処理カップからの薬液のミストの漏出を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】処理カップ25の上段には、第2構成部材22の第2案内部38の上端部38bと第3構成部材23の上端部23bとの間に、ウエハWの端面に対向し、第1薬液を捕獲する第1薬液捕獲口としての第3開口57が形成される。処理カップ25内の下段には、傾斜部41の先端部と第4構成部材24の傾斜部46の先端部との間に、第1雰囲気捕獲口58が形成される。第3開口57と第1雰囲気捕獲口58との上下方向における中間位置(中段)に、処理カップ25内に下降気流を発生するための羽根部材61が配置されている。羽根部材61は、スピンチャック3のスピンベース8に、一体回転可能に設けられている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板を保持しつつ回転させるための基板回転手段と、 前記基板回転手段により回転される基板に対して、薬液を供給する薬液供給手段と、 前記基板回転手段の周囲を取り囲み、当該基板回転手段を収容する処理カップと、 前記処理カップの上段に形成されて、前記基板回転手段により回転される基板から側方に向けて飛散する薬液を捕獲する薬液捕獲部と、 前記処理カップ内の中段に配置されて、前記処理カップ内に下降気流を生じさせる下降気流発生手段と、 前記処理カップ内の下段に形成されて、前記処理カップ内の雰囲気を捕獲するための雰囲気捕獲部とを含む、基板処理装置。
IPC (4件):
H01L 21/304 ,  G11B 7/26 ,  G11B 5/84 ,  H01L 21/027
FI (6件):
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 648L ,  G11B7/26 ,  G11B5/84 Z ,  H01L21/30 569C
Fターム (47件):
2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  5D112AA02 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112CC05 ,  5D112GA08 ,  5D112GA26 ,  5D121GG11 ,  5D121GG28 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07 ,  5F157AA72 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC03 ,  5F157AC13 ,  5F157AC15 ,  5F157BB22 ,  5F157CB03 ,  5F157CB13 ,  5F157CC02 ,  5F157CE03 ,  5F157CE59 ,  5F157CF02 ,  5F157CF04 ,  5F157CF14 ,  5F157CF16 ,  5F157CF32 ,  5F157CF44 ,  5F157CF60 ,  5F157CF70 ,  5F157CF72 ,  5F157CF80 ,  5F157CF94 ,  5F157DA41 ,  5F157DB02 ,  5F157DB32 ,  5F157DB38 ,  5F157DB51 ,  5F157DC85
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2005-103204   出願人:大日本スクリーン製造株式会社

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