特許

J-GLOBAL ID：200903063229230414

基板処理装置

発明者： 藤井 健二
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-103204
公開番号（公開出願番号）：特開2006-286834
出願日： 2005年03月31日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：

【課題】ダウンフローが形成されている環境下において、基板の周囲における気流が乱れるのを防止しつつ、基板から飛散する処理液を分別することができる基板処理装置を提供する。 【解決手段】スピンチャック1の周囲を取り囲むように、内構成部材19、中構成部材20および外構成部材21が配置されている。これらの内構成部材19、中構成部材20および外構成部材21は、互いに独立して昇降可能とされている。ウエハWの処理時には、ダウンフローが形成されるとともに、廃棄溝26内が強制的に排気されている環境下において、外構成部材21の位置が固定された状態で、内構成部材19および中構成部材20が昇降されることにより、第1薬液、第2薬液および純水が分別して回収または廃棄される。【選択図】 図8

請求項（抜粋）：

ダウンフローが形成されている環境下において基板を処理する基板処理装置であって、 基板をほぼ水平に保持して、その基板をほぼ鉛直な回転軸線まわりに回転させる基板保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に対して、処理液を供給するための処理液供給手段と、 前記基板保持手段の周囲を取り囲み、上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、少なくとも前記処理液供給手段による処理液供給時に固定的に配置されて、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための外側案内部と、 前記外側案内部の内側において前記基板保持手段の周囲を取り囲み、上記回転軸線に向けて延びる上端部を有し、その上端部が前記外側案内部の上端部と上下方向に重なるように設けられ、前記基板保持手段によって回転されている基板から飛散する処理液を当該処理液が流下するように案内するための内側案内部と、 前記内側案内部を昇降させるための駆動機構と、 前記外側案内部の上端部から下方に向けて延び、前記駆動機構によって前記内側案内部が最も上昇されたときに、前記内側案内部の上端部に対して水平方向に重なり、前記外側案内部と前記内側案内部との間への処理液の進入を防止するための進入防止部とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

H01L21/304 648F ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/306 R

Fターム (4件)：

5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE33

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-317607   出願人：大日本スクリーン製造株式会社