特許
J-GLOBAL ID：200903015028079594
化粧シート
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-215045
公開番号（公開出願番号）：特開2004-050777
出願日： 2002年07月24日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】所謂内部エンボス構造を有する化粧シートにおいて、内部エンボスによる十分に立体的な意匠を有し、且つ、折り曲げ加工や立体成形加工を施しても、エンボス戻りや銀目などの意匠欠陥を発生することなく、良好な立体的な意匠を保持可能な化粧シートを提供する。【解決手段】少なくとも非結晶性ポリエステル樹脂層12上に非晶状態の結晶性ポリエステル樹脂層13が積層されてなる基材シートの、該非晶状態の結晶性ポリエステル樹脂層13側の面に、凹凸のエンボスパターン14を設け、該エンボスパターン14面に、その凹凸を埋める厚さの透明又は半透明の接着性樹脂層16を介して、透明又は半透明の熱可塑性樹脂シート17を積層した化粧シートである。上記基材シートにおける非晶状態の結晶性ポリエステル樹脂層13及び/又は接着性樹脂層16に、光輝性顔料を分散すると、さらに意匠性に優れた化粧シートを得ることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材シートの表面に凹凸のエンボスパターンが設けられ、該エンボスパターン面側に、該エンボスパターンの凹凸を埋める厚さの透明又は半透明の接着性樹脂層を介して、透明又は半透明の熱可塑性樹脂シートが積層されてなる化粧シートにおいて、前記基材シートが、少なくとも非結晶性ポリエステル樹脂層上に非晶状態の結晶性ポリエステル樹脂層が積層されてなり、該非晶状態の結晶性ポリエステル樹脂層側の面に前記凹凸のエンボスパターンが設けられてなることを特徴とする化粧シート。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (26件)：
4F100AK01G
, 4F100AK41A
, 4F100AK41B
, 4F100AK41C
, 4F100AK42B
, 4F100AL05B
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10B
, 4F100BA10C
, 4F100BA16
, 4F100BA26
, 4F100CA13B
, 4F100DD01B
, 4F100GB07
, 4F100HB00
, 4F100JA11B
, 4F100JA11C
, 4F100JA12A
, 4F100JA12B
, 4F100JA12C
, 4F100JL01
, 4F100JN01G
, 4F100JN02G
, 4F100JN21B
