特許
J-GLOBAL ID:200903015044557390

ペプチド合成のための方法および組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平木 祐輔 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-537561
公開番号(公開出願番号):特表2002-507576
出願日: 1999年03月22日
公開日(公表日): 2002年03月12日
要約:
【要約】本発明は、第一に、ペプチド、特にT-20(「DP-178」ともいう;配列番号1)およびT-20様ペプチドの合成方法に関する。前記方法では、固相および液相の合成法を使用して特定のペプチド断片のグループを合成し、それらを結合させることにより目的のペプチドを生成する。本発明はさらに、目的のペプチド(例:T-20)を合成する際の中間体として役立つ個々のペプチド断片に関する。本発明はまた、全長T-20およびT-20様ペプチドを製造するために一緒に利用することができる、そのようなペプチド断片中間体のグループに関する。
請求項(抜粋):
式:Ac-YTSLIHSLIEESQNQQEKNEQELLELDKWASLWNWF-NH2 (配列番号1) を有するペプチドの合成方法であって、 (a) 式:Fmoc-EKNEQELLEL-COOH (配列番号11) の側鎖保護ペプチドを式:NH2-DKWASLWNWF-NH2 (配列番号18) の側鎖保護ペプチドと反応させて、式:Fmoc-EKNEQELLELDKWASLWNWF-NH2 (配列番号12) の側鎖保護ペプチドを生成し、 (b) 工程(a)で得られたペプチドのアミノ末端を脱保護し、 (c) 工程(b)で得られたペプチドを式:Fmoc-YTSLIHSLIEESQNQQ-COOH (配列番号4) の側鎖保護ペプチドと反応させて、式:Fmoc-YTSLIHSLIEESQNQQEKNEQELLELDKWASLWNWF-NH2 (配列番号1) の側鎖保護ペプチドを生成し、 (d) 工程(c)で得られたペプチドのアミノ末端をアセチル基修飾へと修飾し、 (e) 工程(d)で得られた側鎖保護ペプチドの側鎖を脱保護して、式:Ac-YTSLIHSLIEESQNQQEKNEQELLELDKWASLWNWF-NH2 (配列番号1) のペプチドを得る、ことを含んでなる方法。
IPC (5件):
A61K 38/00 ,  C07K 5/00 ,  C07K 7/00 ,  C07K 16/00 ,  C07K 17/00
FI (5件):
C07K 5/00 ,  C07K 7/00 ,  C07K 16/00 ,  C07K 17/00 ,  A61K 37/00
Fターム (10件):
4C084AA06 ,  4C084BA01 ,  4C084BA19 ,  4C084BA23 ,  4H045AA10 ,  4H045BA19 ,  4H045EA29 ,  4H045FA58 ,  4H045FA59 ,  4H045FA61
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献:
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