特許
J-GLOBAL ID：200903015044749109
パターン図形の分割方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-112963
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307429
出願日： 1998年04月23日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 パターンの微細化の進行により、ショット間の接続ずれによる解像力の悪化が問題となっており、特にゲート層や配線層ではショット間の「細り」による電気特性劣化、信頼性劣化が発生することがある。【解決手段】 微細パターンを描画する際のパターン図形1を基本図形A,Bに分割するパターン図形の分割方法であって、パターン図形1は、分割して得た基本図形A,Bが互いに接触している領域の長さに応じて一部分が重なり合う状態に分割されることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
微細パターンを描画する際のパターン図形を基本図形に分割するパターン図形の分割方法であって、前記パターン図形を、分割して得た基本図形が互いに接触している領域の長さに応じて一部分が重なり合う状態に分割することを特徴とするパターン図形の分割方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 541 M
, G03F 1/08 A
