特許
J-GLOBAL ID:200903015058930965
加速器システム及び医療用加速器施設
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 市郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-275106
公開番号(公開出願番号):特開2003-086400
出願日: 2001年09月11日
公開日(公表日): 2003年03月20日
要約:
【要約】【課題】 広範囲のイオンビーム電流調整範囲をもち、しかも省電力且つ長メンテナンス周期で、間違って多くの照射線量が下流側に輸送されてしまう虞れのない加速器システムを提供すること。【解決手段】 シンクロトロンからなる後段加速器4でイオンビームを加速し、照射室6〜8に高エネルギーのイオンビームを供給して治療を行う加速器システムにおいて、後段加速器4に供給すべきイオンビーム電流値の制御を、イオン源10と四重極電磁石15、高周波四重極加速器17、ドリフトチューブ型加速器19からなる前段加速器側で行うように構成したもの。【効果】 省電力で長メンテナンス周期、且つ高信頼性の加速器システムが提供できる。
請求項(抜粋):
イオン源を含む前段加速器から供給されるイオンビームを後段加速器で加速して照射部に輸送し、照射室内のターゲットにビームを照射する方式の加速器システムにおいて、前記照射室内のターゲットに照射すべきイオンビーム電流値が、前記前段加速器で制御されるように構成したことを特徴とする加速器システム。
IPC (3件):
H05H 13/04
, A61N 5/10
, G21K 5/04
FI (3件):
H05H 13/04 M
, A61N 5/10 H
, G21K 5/04 A
Fターム (13件):
2G085AA03
, 2G085AA06
, 2G085BA20
, 2G085CA22
, 2G085EA07
, 4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE01
, 4C082AG02
, 4C082AG12
, 4C082AN01
, 4C082AR02
, 4C082AR05
引用特許:
審査官引用 (3件)
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荷電粒子ビーム照射方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-057695
出願人:株式会社日立製作所
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医療システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-028881
出願人:株式会社日立製作所
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特公昭45-005320
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