特許

J-GLOBAL ID：200903015101827685

イオンビームによる表面処理方法及びその装置

発明者： 木野村 淳 ,  堀野 裕治 ,  杢野 由明 ,  茶谷原 昭義 ,  坪内 信輝 ,  藤井 兼栄
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院大阪工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-205332
公開番号（公開出願番号）：特開平9-031631
出願日： 1995年07月18日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【課題】イオンビーム照射によって材料の表面処理を確実かつ比較的高速で行う方法及びその装置を提供することを主な目的とする。【解決手段】イオンビーム照射により材料の表面を処理する方法であって、材料裏面が実質的に真空下にさらされ、かつ、材料表面がガス雰囲気中にさらされている材料の裏面に、イオンビームを照射することを特徴とするイオンビームによる表面処理方法、及びその装置。

請求項（抜粋）：

イオンビーム照射により材料の表面を処理する方法であって、材料裏面が実質的に真空下にさらされ、かつ、材料表面がガス雰囲気中にさらされている材料の裏面に、イオンビームを照射することを特徴とするイオンビームによる表面処理方法。

IPC (3件)：

C23C 14/22 ,  C23C 26/00 ,  C23F 4/00

FI (4件)：

C23C 14/22 F ,  C23C 26/00 D ,  C23C 26/00 L ,  C23F 4/00 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭63-206461