特許

J-GLOBAL ID：200903015150935990

プラズマ式流動層炉

発明者： 片桐 源一 ,  虎口 信 ,  榊原 康史 ,  柳沼 禎浩
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-230470
公開番号（公開出願番号）：特開平10-074581
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【課題】酸化性あるいは還元性の雰囲気が容易に得られ、排ガスが少なく、かつ反応効率、熱効率の高い流動層炉を得る。【解決手段】炉容器1の内部に整流板2を備え、その上に粒状の被処理物20を搭載し、下方より導入される流動化ガスにより流動層として保持する流動層炉において、高周波誘導コイル8を巻装した電気絶縁間6の内部にプラズマ生成ガスを導入し、高周波誘導コイル8に高周波電流を流してプラズマ生成ガスをプラズマ化して用いる高周波誘導熱プラズマ生成装置3を、整流板2の流動化ガスの蒸留側に備え、高周波誘導熱プラズマ生成装置3で生成されたプラズマを流動化ガスとして用いて、被処理物20を処理する。

請求項（抜粋）：

炉容器の内部に整流板を備えてその上部に粒状の被処理物を搭載し、整流板の下方より導入される流動化ガスによる抗力と重力とによって粒状の被処理物を流動層として保持し、これを処理する流動層炉において、高周波誘導コイルを巻装した円筒状の電気絶縁管の内部にプラズマ生成ガスを導入し、高周波誘導コイルに高周波電流を流して前記プラズマ生成ガスをプラズマ化して用いる高周波誘導熱プラズマ生成装置を、整流板の下方の流動化ガスの上流側に同軸状に備え、高周波誘導熱プラズマ生成装置により生成されたプラズマを流動化ガスとして用いて前記の粒状の被処理物を処理することを特徴とするプラズマ式流動層炉。

IPC (5件)：

H05B 7/18 ,  F23G 5/10 ZAB ,  F23G 5/30 ZAB ,  F27B 15/00 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

H05B 7/18 E ,  F23G 5/10 ZAB Z ,  F23G 5/30 ZAB Z ,  F27B 15/00 ,  H05H 1/46 L

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 樹脂製被処理物の酸化分解装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-193950   出願人：株式会社神戸製鋼所
• 特開昭48-059300
  
• 特開昭51-039971