特許
J-GLOBAL ID:200903015172246934

研磨用成形体及びそれを用いた研磨用定盤

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-369627
公開番号(公開出願番号):特開2002-166355
出願日: 2000年11月30日
公開日(公表日): 2002年06月11日
要約:
【要約】【課題】基板材料や光学材料などの仕上げ前工程(ラッピング工程)に主として適用でき、所定の表面精度に被研磨材料表面を一層高速ででき、このような特性が安定している研磨用成形体及びそれを用いた研磨用定盤を提供する。【解決の手段】無機粒子からなる研磨用成形体であって、研磨用成形体の研磨に携わる面に摺擦部分と非摺擦部分とを有し、摺擦部分に存在する細孔が1μm以下の径からなると共にその面積が摺擦部分の全面積の15%未満であり、さらに非摺擦部分の面積が研磨に携わる面の全面積に対して20%以上60%以下である研磨用成形体及びそれを用いた研磨用定盤を用いる。
請求項(抜粋):
無機粒子からなる研磨用成形体であって、前記研磨用成形体の研磨に携わる面に摺擦部分と非摺擦部分とを有し、前記摺擦部分に存在する細孔が1μm以下の径からなると共にその面積が摺擦部分の全面積の15%未満であり、さらに非摺擦部分の面積が研磨に携わる面の全面積に対して20%以上60%以下である研磨用成形体。
IPC (3件):
B24B 37/00 ,  B24B 37/04 ,  H01L 21/304 622
FI (3件):
B24B 37/00 C ,  B24B 37/04 A ,  H01L 21/304 622 F
Fターム (3件):
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB03
引用特許:
審査官引用 (1件)

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