特許

J-GLOBAL ID：200903015279029545

洗浄装置及び洗浄方法

発明者： 山崎 和俊 ,  古野 喜彦 ,  本間 孝治
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社 ,  株式会社ケミトロニクス
代理人 (1件)： 安富 康男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-188402
公開番号（公開出願番号）：特開2003-103227
出願日： 2002年06月27日
公開日（公表日）： 2003年04月08日
要約：

【要約】【課題】 一旦剥離に用いたオゾン水を再利用することができ、また、高濃度のオゾン水でバッチ処理を行うことができる洗浄装置及びこれを用いた洗浄方法を提供する。【解決手段】 少なくとも、水にオゾンガスを溶解する工程が行われるオゾン溶解モジュールと、オゾン水で対象物を洗浄する工程が行われる反応槽とを有する洗浄装置であって、前記オゾン溶解モジュール内には、非多孔性膜からなるガス溶解膜が収容されており、前記反応槽と前記オゾン溶解モジュールとの間をオゾン水が循環する洗浄装置。

請求項（抜粋）：

少なくとも、水にオゾンガスを溶解する工程が行われるオゾン溶解モジュールと、オゾン水で対象物を洗浄する工程が行われる反応槽とを有する洗浄装置であって、前記オゾン溶解モジュール内には、非多孔性膜からなるガス溶解膜が収容されており、前記反応槽と前記オゾン溶解モジュールとの間をオゾン水が循環することを特徴とする洗浄装置。

IPC (6件)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 648

FI (7件)：

B08B 3/08 A ,  B08B 3/10 Z ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/304 647 B ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 K

Fターム (8件)：

3B201AA01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB90 ,  3B201BB95 ,  3B201BB98 ,  3B201BC01 ,  3B201CD22 ,  3B201CD41

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 有機質汚れの高度洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-035497   出願人：株式会社ササクラ
• オゾン水洗浄方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-257369   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 炭酸水洗浄器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-120052   出願人：三菱レイヨン株式会社
• 洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-372847   出願人：野村マイクロ・サイエンス株式会社