特許

J-GLOBAL ID：200903015325713294

アリルエーテル誘導体の製造方法、該製法に供する前駆体および該製法により得られるアリルエーテル誘導体

発明者： 帖佐 淳一 ,  長野 英明
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-233995
公開番号（公開出願番号）：特開2003-048864
出願日： 2001年08月01日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】レジスト材料や低収縮化材料等の各種材料に利用可能なアリルエーテル誘導体、それを容易に得るための新規な製造方法と前駆体を提供する。【解決手段】一般式4のアリルエーテル誘導体、およびα-(アルキルオキシ)メチルアクリル酸ハライドとアルコールとを反応させるアリルエーテル誘導体の製造方法。具体例としてはα-(イソボルニルオキシ)メチルアクリル酸クロライド及び1-メチルシクロヘキサノールからのα-(イソボルニルオキシ)メチルアクリル酸(1-メチルシクロヘキシル)の製造がある。(R2はC5〜20の脂環式炭化水素基、R3はメチル基またはエチル基、R4は水酸基の結合した4級炭素を含めたC5〜13の脂環式炭化水素基を形成するC4〜12の残基を表す。)

請求項（抜粋）：

α-(アルキルオキシ)メチルアクリル酸ハライドとアルコールとを反応させることを特徴とするアリルエーテル誘導体の製造方法。

IPC (3件)：

C07C 67/14 ,  C07C 59/62 ,  C07C 69/734

FI (3件)：

C07C 67/14 ,  C07C 59/62 ,  C07C 69/734 Z

Fターム (8件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ30 ,  4H006BP20 ,  4H006BS90 ,  4H006KA14

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭59-148733
  
• レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-308587   出願人：株式会社日本触媒
• 2-アルキル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート類の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-029014   出願人：三菱レイヨン株式会社
• 特開昭59-148733