特許

J-GLOBAL ID：200903015378852512

2,2-ビス(2,4-ジ-t-ブトキシカルボニルメチロキシフェニル)プロパン及びその誘導体

発明者： 渡辺 淳 ,  石原 俊信 ,  八木橋 不二夫
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-306557
公開番号（公開出願番号）：特開平8-245515
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：

【要約】【課題】 3成分系ポジ型レジスト用溶解阻害剤として有効な新規化合物を提供すること。【解決手段】 下記化1で表される2,2-ビス(2,4-ジ-t-ブトキシカルボニルメチロキシフェニル)プロパン及びその誘導体;【化1】但し、化1中のR4 はアルキル基、mは0〜3の整数を表す。

請求項（抜粋）：

下記化1で表される2,2-ビス(2,4-ジ-t-ブトキシカルボニルメチロキシフェニル)プロパン及びその誘導体;【化1】但し、化1中のR4 はアルキル基、mは0〜3の整数を表す。

IPC (4件)：

C07C 69/712 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C07C 69/712 B ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-358664   出願人：日本合成ゴム株式会社, 株式会社東芝
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-299093   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特開平4-088348
  
• 特開平4-088348