特許
J-GLOBAL ID:200903082671302550
感放射線性樹脂組成物
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
福沢 俊明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-358664
公開番号(公開出願番号):特開平6-202320
出願日: 1992年12月28日
公開日(公表日): 1994年07月22日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度、性能安定性、保存安定性等にも優れたレジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 感放射線性樹脂組成物は、下記式(1)で表される1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル成分を含有することを特徴とする。(ここで、Dは水素原子または1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホニル基を示すが、Dのうちの1つ以上は1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホニル基であり、各R は相互に同一でも異なってもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基を示し、m、n、xおよびyはそれぞれ0〜5の整数であるが、5≦m+n≦10、m+x=5、n+y=5の関係を満たす。)
請求項(抜粋):
?@ 酸解離性基で保護されたアルカリ不溶性あるいはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、並びに?A 下記式(1)で表される1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(1)において、Dは水素原子または1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホニル基を示すが、Dのうちの1つ以上は1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホニル基であり、各R は相互に同一でも異なってもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基を示し、m、n、xおよびyはそれぞれ0〜5の整数であるが、5≦m+n≦10、m+x=5、n+y=5の関係を満たす。〕
IPC (3件):
G03F 7/023 511
, G03F 7/022
, H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (10件)
-
特開平3-249654
-
特開平3-107163
-
特開昭63-271346
-
特開昭59-113435
-
特開平1-177031
-
特開昭63-184745
-
特開昭63-178229
-
特開昭63-279246
-
パターン形成用レジストおよびパターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-100310
出願人:株式会社東芝
-
感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-036985
出願人:日本合成ゴム株式会社
全件表示
前のページに戻る