特許
J-GLOBAL ID:200903015388288674

水系処理法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田中 政浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-053258
公開番号(公開出願番号):特開2002-254083
出願日: 2001年02月28日
公開日(公表日): 2002年09月10日
要約:
【要約】【課題】 微生物障害を引き起こす微生物や水棲生物を殺滅ないし剥離除去するのに十分な濃度の次亜ハロゲン酸を被処理水中に維持でき、かつ被処理水と接触する金属の次亜ハロゲン酸による腐食を同時に防止できる水系処理法を提供する。【解決手段】 次亜ハロゲン酸を用いて殺生物処理を実施している水系において、被処理水中の酸化還元電位を測定する工程と、該測定結果をもとに次亜ハロゲン酸ならびに金属の腐食抑制剤の添加量を調整する工程を含むことを特徴として構成されている。
請求項(抜粋):
次亜ハロゲン酸を用いて殺生物処理を実施している水系において、被処理水中の酸化還元電位を測定する工程と、該測定結果をもとに次亜ハロゲン酸ならびに金属の腐食抑制剤の添加量を調整する工程を含むことを特徴とする水系処理法。
IPC (12件):
C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 532 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/76 ,  C23F 11/14 ,  C23F 11/16 ,  C23F 11/167 ,  F28F 19/00 511
FI (16件):
C02F 1/50 510 C ,  C02F 1/50 510 D ,  C02F 1/50 510 E ,  C02F 1/50 520 J ,  C02F 1/50 520 K ,  C02F 1/50 531 L ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 531 P ,  C02F 1/50 532 H ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 1/76 A ,  C23F 11/14 ,  C23F 11/16 ,  C23F 11/167 ,  F28F 19/00 511 A
Fターム (18件):
4D050AA08 ,  4D050AB06 ,  4D050BB03 ,  4D050BB04 ,  4D050BB06 ,  4D050BC10 ,  4D050BD03 ,  4D050BD08 ,  4K062AA03 ,  4K062BB18 ,  4K062BB21 ,  4K062BB25 ,  4K062CA10 ,  4K062DA10 ,  4K062EA04 ,  4K062FA04 ,  4K062FA05 ,  4K062GA10
引用特許:
審査官引用 (12件)
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