特許

J-GLOBAL ID：200903015407711966

基板洗浄装置及び基板の洗浄方法

発明者： 横田 真理 ,  古川 智晴 ,  浅田 和己 ,  小川 直樹
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松尾 憲一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-025053
公開番号（公開出願番号）：特開2005-217336
出願日： 2004年02月02日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

【課題】ウェーハなどの基板を全面均一に効率的に洗浄可能な基板洗浄装置及び基板の洗浄方法を提供する。 【解決手段】基板を水平回転させ、回転する基板の半径方向にノズルを往復移動させながら洗浄液を噴出して洗浄する基板の洗浄方法において、基板の回転速度及び/又はノズルの移動速度を可変とした。また、前記ノズルを往復移動させながら洗浄液を噴出した後、基板上の洗浄液を振り切る工程を有し、前記ノズルが基板の外周縁に向けて移動するときと、ノズルが基板の外周縁から基板中心に向けて移動するときと、洗浄液を振り切るときとで、基板の回転速度を漸次減速する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板を水平回転させ、回転する基板の半径方向にノズルを往復移動させながら洗浄液を噴出して洗浄する基板洗浄装置において、 基板の回転速度及び/又はノズルの移動速度を可変に制御する制御手段を備えることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (1件)：

H01L21/304

FI (3件)：

H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 651B

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板洗浄方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-357105   出願人：株式会社スガイ