基板洗浄方法および装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐野章吾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-357105
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163150
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】単一の密閉された洗浄室内でウエハを一枚ずつカセットレスでノズル洗浄することにより、パーティクルの再付着等もなく高い清浄度雰囲気での洗浄を高精度に行なうことができる基板洗浄技術を提供する。【解決手段】一枚のウエハWを収容する密閉可能な単一の処理チャンバ15と、処理チャンバ15の基板搬入出口を構成する開閉可能なゲート部16と、処理チャンバ15内に設けられ、一枚のウエハWを水平状態に支持する基板支持部17と、基板支持部17を水平回転させる基板回転部18と、処理チャンバ15内に設けられ、基板支持部17に支持されたウエハWの表面に洗浄液を噴射する複数の噴射ノズル19と、処理チャンバ15内の洗浄液を排出置換するための不活性気体を供給する不活性気体供給部20と、処理チャンバ15内の洗浄液または不活性気体を排出するドレン部21と、ゲート部16、基板回転部18、噴射ノズル19、不活性気体供給部20およびドレン部21を相互に関連して駆動制御する制御部22とを備えてなる。

請求項（抜粋）：

基板を一枚ずつ複数の洗浄液で洗浄処理する枚葉式の洗浄方法であって、密閉された処理空間内において、一枚の基板を水平状態で支持回転しながら、この基板の被処理面に洗浄液を噴射してスプレー洗浄するとともに、この洗浄液を不活性気体により置換することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 3/02

FI (4件)：

H01L 21/304 341 M , H01L 21/304 341 C , H01L 21/304 341 N , B08B 3/02 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板の洗浄処理方法並びに洗浄処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-190059 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-248808 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
半導体プロセスの改良方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平7-520051 出願人：インシンク・システムズ・インコーポレーテッド

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